Platina doel

Hoge-zuivere, dichte en gelijkmatige film-vorming, waardoor uiterst stabiele en hoge-temperatuur-resistente oplossingen voor dunne-filmdepositie worden geboden voor halfgeleider- en medische apparaten.

Het platina-sputterdoel is een sputterdoel van edelmetaal dat is vervaardigd uit platina met een hoge-zuiverheid door middel van vacuümsmelten, heet isostatisch persen (HIP), precisiesmeden en mechanische verwerking. Het wordt voornamelijk gebruikt bij fysische dampdepositie (PVD) magnetronsputterprocessen. Dit product heeft een hoge zuiverheid, hoge dichtheid, uniforme microstructuur en uitstekende maatnauwkeurigheid, waardoor de vorming van corrosie-bestendige, hoge- temperatuur-bestendige en zeer stabiele platinafilms mogelijk is. Het vindt uitgebreide toepassingen in halfgeleiders, opto-elektronica, nieuwe energietechnologieën, sensoren en medische apparaten.